光學清洗劑介紹 – 通過食品級且符合RoHS, 無鹵要求的清潔劑
光學清洗劑
在光學鏡片、精密模組、感測器與高階電子元件製程中，清潔品質直接影響產品良率與可靠度。特別是在高解析影像模組與半導體封裝領域，微量污染都可能造成光學失真或黏著不良。
因此，市場對低殘留、低腐蝕、環保合規的光學清洗劑需求持續提升。近年來，「半水基清潔劑（Semi-Aqueous Cleaner）」因兼具溶解力與安全性，逐漸成為主流解決方案。
什麼是半水基光學清洗劑？
半水基清潔劑是介於溶劑型與全水基清洗系統之間的技術路線，其特性包括：
- 含高效有機溶解成分
- 可水洗或乳化沖洗
- 低揮發、低氣味
- 低 VOC 配方
相較於傳統高揮發性溶劑（如 IPA、酒精 或氯化溶劑），半水基清洗劑系統可有效降低安全與環境風險。
客戶顯著的案例是產品少了GHS危險符號，在廠內可以保存，不必特別設置危險品倉庫。
為何光學製程需要高規格清潔劑？
光學元件常見污染物包括：
- 指紋油脂
- 研磨殘留
- 黏著劑殘膠
- 微粒粉塵
- 金屬加工油
若清潔不完全（達因測試Dyne test DIN ISO 8296），可能導致：
- 透光率下降
- 鍍膜附著不良
- 感測器訊號干擾
- 長期腐蝕風險
因此，清洗劑需具備：
- 高去油與去膠能力
- 低殘留（Low Residue）
- 不影響鍍膜與塗層
- 與 PC、PMMA、玻璃等材質相容
通過食品級標準的意義
部分光學與電子模組會應用於：
- 食品機械設備
- 醫療影像設備
- 飲料檢測系統
若清潔劑符合 NSF International 相關食品安全規範（如NSF A1），代表其成分安全性更高，殘留風險更低。
即便應用場景非直接接觸食品，具備食品級合規能力仍有助於：
- 提升客戶信任
- 簡化跨產業應用驗證
- 強化出口合規優勢
符合 RoHS 與無鹵要求的重要性
電子與光學產業普遍要求產品符合：
- 歐盟RoHS 指令（限制有害物質）
- 無鹵（Halogen-Free）
- 要求 RoHS 限制鉛、汞、鎘、六價鉻、多溴聯苯（PBB）與多溴二苯醚（PBDE）等物質。
- 無鹵要求則控制氯（Cl）與溴（Br）含量，避免高溫下產生腐蝕性或有毒氣體。
選擇符合 RoHS 且無鹵配方的半水基清潔劑，能：
- 降低電子腐蝕風險
- 提升 PCB 與感測器可靠度
- 符合國際客戶驗證標準
半水基清潔劑的技術優勢
- 高溶解能力 可有效去除高黏度油脂與殘膠。
- 低氣味與低 VOC 改善工作環境安全。
- 低腐蝕性 適用於鋁、銅、不鏽鋼與精密零件。
- 水洗可控 可搭配超音波或噴淋設備。
- 環保與合規優勢
- 同時符合食品級、RoHS、無鹵規範。
應用場景案例
- 手機鏡頭模組清洗
- 光學玻璃鍍膜前處理
- 精密感測器清潔
- 食品設備視覺檢測模組
- 半導體設備零件去油
在高精密光學與電子製程中，清潔劑的選擇已不只是去污能力問題，更涉及法規合規與長期可靠度。 通過食品級標準、符合 RoHS 且無鹵要求的半水基光學清洗劑，能在安全、性能與環保之間取得平衡，成為現代精密製造的理想解決方案。
厚誠貿易有限公司
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